目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高的精度測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測(cè)儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高的精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐，是一種目前較為理想的真高空退火爐。
 

　　高真空退火爐設(shè)備優(yōu)勢(shì)：
 

　　1.高速加熱與冷卻方式
 

　　高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
 

　　2.溫度高的精度控制
 

　　過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精que控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。
 

　　3.不同環(huán)境下的加熱與冷卻
 

　　加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng))，操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
 

　　高真空退火爐的應(yīng)用：
 

　　1.電子材料
 

　　半導(dǎo)體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)
 

　　熱源薄膜形成·激活離子注入后硅化物的形成
 

　　2.陶瓷與無機(jī)材料
 

　　陶瓷基板退火爐
 

　　玻璃基板退火爐
 

　　陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐
 

　　3.鋼鐵和金屬材料
 

　　薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬
 

　　爐焊接模擬
 

　　高真空熱處理(1000℃以下)
 

　　大氣氣體熔化過程
 

　　壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐
 

　　4.復(fù)合材料
 

　　耐熱性評(píng)價(jià)爐
 

　　無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐
 

　　5.其它
 

　　高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐
 

　　分段分區(qū)控制爐
 

　　溫度梯度爐
 

　　爐氣分析
 

　　超導(dǎo)陶瓷退火爐